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我国的光刻机发展到什么地步了?

2019-07-10 10:21:54 来源:
我国的光刻机发展到什么地步了?

光刻机是半导体产业中最重要的设备,技术先进的还是由荷兰ASML公司生产,我国也有在研发生产光刻机,但技术水平还比较落后,无法满足现代芯片工艺要求。

我国光刻机的发展现状与技术水准

目前我国能生产光刻机的企业有5家,最先进的是上海微电子装备有限公司,光刻机量产的芯片工艺是90纳米,目前正在向65纳迈进,因为90纳米是一个台阶,如果能过关,后面的65、45就很容易攻破,按照目前的发展速度,预计在2020年可以达到22纳米。

日本佳能和尼康的退出,只有荷兰ASM占统治地位,与它相比,国产光刻机有较大差距

日本还有两家光刻机设备商佳能和尼康,佳能因为此项业务亏损,在2008年就退出了。而尼康的光刻机受到了英特尔的限制,新的制程不用尼康的光刻机,给了尼康沉重的打击以致衰败。现在只有荷兰ASML占统治地位,它们的工艺已经达到了7nm,还在研发5nm中,而我国的光刻机设备是90nm,65nm还在研发中。显而易见,我国的光刻机技术还有很大的差距。


 

我国光刻机的发展成果

2016年我国完成了“极紫外光刻技术”的验收,历经八年的研究成果终于换来了回报,这对于光刻技术具有里程碑的意义。极紫外光刻是最具有代表性的光刻技术,它是以13.49nm的EUV光来用作投影,比其它的投影光源更全面,是投影技术的临界点,获得这项技术对光刻机的提升起着很大的作用,计划在2030实现EUV光刻机量产。


 

虽然我国的光刻机技术落后,但一个小小的突破就会给我们很大的信心,也代表了中国企业在半导体行业发展的决心,期望早日突破光刻机技术难关,迎来中国芯。

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